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產品中心

高精密全電動波導耦合平臺

PWS-HE系列高精密全電動波導耦合平臺采用兩側六軸電動調節方案,智能化軟件操作,耦合效率優異,適用產線批量化耦合需要;功能模塊配置可根據用戶實際需要選擇,是產業工藝首選;另外可選配點膠固化等裝置,滿足產線全鏈條耦合封裝應用。

產品介紹

       精密對準耦合系統主要用于為半導體芯片、硅波導器件等提供光電耦合封裝平臺;如光纖(單纖、FA光纖陣列)、硅光芯片、平面波導型光分路器(PLC)、陣列波導光柵(AWG)、波分復用(WDM)、準直器等無源器件的光電耦合封裝;廣泛應用于前沿科研、產業工藝等應用領域。系統主要包括精密調節部件、器件夾具部件、芯片臺(可增加溫控)、多維顯微觀察模塊、光源、光學平臺、光功率計、探針座、點膠固化機等。設備功能全面、操作簡便,可根據客戶實際應用需求提供定制化解決方案。

  PWS-HE系列高精密全電動波導耦合平臺采用兩側六軸電動調節方案,智能化軟件操作,耦合效率優異,適用產線批量化耦合需要;功能模塊配置可根據用戶實際需要選擇,是產業工藝首選;另外可選配點膠固化等裝置,滿足產線全鏈條耦合封裝應用。

核心模塊:

  • 六維精密調節臺、六軸電動調節、軟件操控

  • 定制化夾具(光纖、波導芯片等)

  • 四維可調芯片臺(可加溫控)

  • 多維顯微觀察系統

  • 探針座、光學平臺、光源、光功率、點膠機、UV機等

技術優勢:

  • 模塊化設計,根據應用需求搭配合適配置

  • 采用進口六維調節臺,納米級位移精度

  • 操作簡單,功能全面,所有工序可在同一平臺完成

  • 應用面廣,具備硅光波導、PLC、AWG、WDM等耦合需求

  • 可根據客戶應用提供定制化解決方案

模塊選型及參數說明:

 
名稱型號單位數量參數
六維精密電動調節臺MA-E2000系列2

臺面尺寸125x125mm,粗調行程50mm,最小位移達10nm,帶50nm光柵尺反饋,最大速度20mm/s,重復定位精度±0.01μm

θX行程±6°,精度~0.0025°

θY行程±8°,精度~0.003°

θZ行程±8°,精度~0.0032°

六軸控制器TPL261六軸運動控制器
六軸伺服運動控制器
操控軟件SDK-011馬達電動軸件控制整合運動軟件,含耦合模塊,粗掃光,爬山和精密爬山三種模式,可以設置步進,點動,能夠實現自動光對準,含光功率和光電流兩種軟件(電流耦合需要客戶自備源表),含垂直和水平耦合兩種方式
定制夾具ALF-D1光纖(單纖/FA光纖陣列,水平/垂直)
波導芯片:真空吸附/機械支持/TEC溫控
芯片四維調節臺FDM301XY13mm行程,Z軸6mm行程,360度轉臺
顯微觀察LMU-FL2/3

光學放大倍數0.7-4.5X,最大電子放大倍數達270X,1:7變焦,四維調節,行程40mm,不銹鋼立柱固定,工作距離86mm,200萬彩色數字相機,成像軟件帶測量、拍照、錄像、繪圖等,高清顯示器,鏡頭可實現0-90°旋轉(鏡頭可根據客戶需求選擇)

垂直FA應用配置三套顯微鏡組(增加一套水平觀察)

光學平臺PLGZT1配置我司PLGZT系列高精密阻尼隔振光學平臺,尺寸可選
可選配我司標準光學儀器架,暗室遮光簾
探針座TPLS-UN2/4直流探針座:帶探針固定夾具,磁力吸附底座,三軸調節行程13mm,精度1μm,香蕉頭線纜(公頭)
射頻探針座:帶探針固定夾具,磁力吸附底座,三軸調節行程13mm,精度1μm,彎擺臺,調節針頭跟pad平行
其他(可選配)---光源、光功率計、UV機、點膠機等


軟件界面:

光器件耦合系統↓

光器件耦合系統截圖.jpg

位移系統↓

位移系統界面.png

耦合反饋(光功率計)↓

光功率計平穩性觀察.png


耦合操作流程

以PLC粘合為例:調整光纖(單纖/FA陣列)和CHIP(駐光芯片)之間相對位置,使IL最小(通過對光找出最小值),上膠固化使兩者之間固定。

  1. 安裝初始:光纖陣列與平面波導支架配工臺安裝芯片開始。一旦CHIP和光纖陣列FA被裝好,使用顯微系統將各組件調整到各自位置,檢測進而預備粘合工藝。需要與平面波導做特定的平行定位。使用垂直和平行干相機,所有位置僅用一次調整,確保實現平行定位的設置。復合的精度保持保證在以后的裝配中保持其工作關系;

  2. 調整校正:通過X軸、Y軸和Z方向的偏差來進行初始光場的調整,操作視頻顯微成像(水平投影+重直影)顯示出各項偏差,然后手動調整來補償偏差。當三個器件完成初始定位,同時確認其在Z軸方向的相對位置關系后,這時需要確認輸入光纖陣列和波導器件之間的粘合對準,將物鏡聚焦到波導器件的輸出端面。通過物鏡及初始光CCD,可以將波導輸出端耦合通道的近場像投射出來,進行適當粘合后,圖像會被投射到顯露器上;

  3. 視覺輔助:這些自動視覺輔助功能將助力粘合的步驟是粘合工藝的一部分。在此工藝過程中,輸入及輸出光纖陣列和波導輸入及輸出端面的距離大約是100-200um,以便測試使用機器人視覺或紫外線檢測波長找到缺陷的則的量,為后面的必要的粘合器件留出安全的空間。大體上來說,旋轉粘合會通過使用傳感信息調整角度及形成粘合的角度方法,將輸入光纖陣列和波導陣列的每一個及層面粘合使用設備測試確認功能,輸入及輸出耦合通道的所有功能是否正常在這方面展示。通過對光纖接觸面進行適配尺寸的位置修正。待確認各項最終光纖視程數值完全成型后,就可進行自適應的5-10um,進行后續調合。可以通過機械調整,每次提高10um;

  4. 校驗測試:在此過程中,可以用輸出波導對齊到第一輸入通道,延X軸的方向對波導各器通道進行掃描,以測量其各通道的光功率。在各個器件完成光粘合效率優化,并對輸入及輸出光纖陣列執行定位后,就可以使用自動光系統將各個器件進行校對接;

  5. 照射UV固化;

  6. 下料測試:松開平支具,取下物料,交測試組測試。

應用領域:

 廣泛應用于科學研究及工業產線等核心領域。覆蓋  硅光波導耦合光纖(單纖/FA光纖陣列)AWGWDMPLC準直器等相關光路耦合。

譜量光電可根據客戶實際應用需求,提供定制化光耦合系統方案,具體信息可聯系詳詢。

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標簽:

025-86550730